Ei?ifiiiP von Tempcratiir, Untcrloffc iiiul Bedeck iini; aitf Piciparate 



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Sauerstoff in der Vakuumapparatur Zutritt zu der 

 reinen Kupferoberflache und kann mit dicser wiedcr 

 zu CUjO reagieren, da wir uns noch oberhalb der 

 Dissoziationsdruckkurve befindcn. Hiermit kann das 

 Spiel von neuen beginncn, bis das ganze Kupi'er vcr- 

 dampft ist. Die Oxydulschicht hat also beziiglich der 

 Verdampfung eine Art katalytische Wirkung. 



Es darf nicht auBer Acht gelassen werden, daB bei 

 den hier behandelten Mikrostrukturen wescntliche 

 Verschiebungen der Gleichgewichtskurven auftreten 

 konnen, bedingt durch die bekannten Effekte .,klei- 

 ner Tropfchen" usw. Temperimgsversuche an zu 

 CuO durchoxydierten Kupfcraufdampt'schichten, die 

 untcr gleichen Bedingungen vvie die Kupl'ererhit- 

 zungen angestellt wurden, bestiitigten dieses: Die 

 Reduktion zu Oxydul tritt schon bei etwa 270°C, die 

 zu Kupfer kurz unterhalb 400 C ein\ letztere also 

 in dem Temperaturbereich. in dem sich die ersten 

 Zerstorungen an unbedeckten Kupferschichten bc- 

 merkbar machten. Im Gegensatz zu den Verhaltnissen 

 an unbedeckten Schichten hat man es bei Vorhan- 

 densein von Kohlebedeckungen nicht mit echten 

 Gleichgewichtszustiinden, sondern mit reaktions- 

 fiihigen Partnern im gehemmten Gleichgewicht zu 

 tun. Hier kann also bereits vor der besprochenen 

 Sublimation des Oxyduls seine Aufzehrung durch die 

 Kohleeintreten. AusschlieBend vermag die Bedeckung 

 auf Kupfer iihnliche Wirkungen wie auf Silber aus- 

 zuiiben. Dieses steht im Einklang mit unserer Er- 

 fahrung, daB die Liickenbildung und Aggregation 

 bedeckter Schichten bei niedrigeren Temperaturen 

 eintritt als von unbedeckten Schichten. 



1 Es est zu beachten, daB die Oxyde mit der SiO-Unterlage 

 in Beriihrung stehen. Veranderungen der Tragerfolie, wie sic 

 anfangs beschrieben wurden. treten bei den hier benutzlen 

 Temperaturen allerdings noch nicht auf. 



Eine Angabc des Zersetzungsmechanismus nach 

 stochiometrisch festgelegten Umsetzungen, wie sie 

 im vorlicgenden Beispiel versucht wurde, schcint 

 nur in weiiigen Fallen moglich. Wie verwickelt aber 

 auch die Umstiinde im Einzelfall liegcn, der wcsent- 

 liche Vorgang all dieser Erscheinungen scheint in der 

 Lockerung der Oberfliichenatome durch diinnste 

 Adsorptionsschichtcn zu liegcn. 



Die mitgcteiltcn Ergebnisse beziehcn sich in der 

 Hauptsache auf Praparatveriinderungcn durch Tcm- 

 pern, unter Beriicksichtigung der moglichen Reak- 

 tionen mit Unterlage und Bedeckungen. Es wurde 

 also Thermod>'namik — odcr besscr gcsagt Thermo- 

 statik — elektronenmikroskopischer Priiparate be- 

 trieben. Neben den allgemeinen Bedenkcn, die man 

 bei der Anwendung der Gleichgewichtslehrc auf 

 reale Verhiiltnisse hegen muB, ist besonders zu 

 beachten, daB die Objekte im Gegensatz zu den Ver- 

 suchen im Vakuumofen unter dem Elcktronenstrahl 

 nur noch sehr bedingt thermodynamische Systeme 

 darstellen. Vor allem sind die unter diesen Umstan- 

 den auftretendcn spezifisch clcktronischen EfTckte 

 auf dem oben beschrittcnen Wege nicht erfaBbar. 

 Um ihren EintluB zu beschrcibcn, bedarf es noch 

 zahlreicher Versuchc auf anderer Grundlage. 



LiTERATUR 



1. Bryant, P. J., Rhoads, U. H., und Weber. A. H., J. Appl. 



Pins. 25, 13,43 (1954). 



2. Erdmann-Jesnitzer, F. und Gunther, F.,Z. Me/rt//A«/;(/e 



45, 407 (1954). 



3. Hanszen, K.-J., Physik. Verhandl. 6, 36 u. 58 (1955). 



(Kurze Sitzungsbcr.) 



4. — Z. Naturforsch. lla, 878 (1956). Z. IDJ 98, 1709 



(1956). 



5. KoNiG, H.,Z. P/tysik 129,483 (1951). 



6. KoNiG, H., Knoch, M., und Brockes, A.,Z. wiss. Mikro- 



skop. 62, 450 (1955). 



