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silice se dissout rapidement et il reste un mélange de cristaux de silicium 

 dont une partie se maintient en suspension et disparaît ensuite par l'addi- 

 (lilion d'acide fluorhvdrique concentré. Le procédé analytique que nous 

 avions suivi jusqu'ici comportait donc une cause d'erreur, le résidu de sili- 

 cium après l'action de l'acide fluorhydrique ne nous fournissant qu'une 

 partie du silicium libre, le silicium soluble étant compté comme silice. 



Pour évaluer le silicium libre total nous avons converti le mélange pesé 

 de silice et de silicium, provenant de l'attaque par l'acide azotique, en sili- 

 c.ite de potassium dans lequel nous avons dosé la silice. L'augmentation de 

 poids était due à l'oxygène fixé sur le silicium libre, ce qui nous permettait 

 de calculer le poids de ce dernier. En opérant ainsi nous avons pu constater 

 (pie le rapport du cuivre au silicium combiné était toujovus voisin de SiCu'. 



L'examen métallographique des surfaces polies de cuivres siliciés, renfer- 

 mant de I à 20 pour 100 de silicium, nous a j^ermis de reconnaître la pré- 

 sence du silicium libre à jjartir de 10 pour 100 de silicium total. Sur une 

 surface polie d'un lingot à i4.4 de sdiciuni total, après attaque à la potasse, 

 les cristaux de silicium apparaissent en creux ; on distingue aussi très net- 

 tement l'eutectique silicium et siliciure de cuivre. La métallographie nous a 

 été également d'un grand secours, pour mettre en évidence, m situ, la pré- 

 sence du silicium libre soluble dans l'acide fluorhydrique. 



L'acide fluorhydrique est pri^sque sans acticm sur le siliciure de cuivre. Une surface 

 polie d'un lingot à 14 pour 100 de silicium, maintenue en présence de cet acide con- 

 centré et bouillant, ne change pas d'aspect; on reconnaît seulement que des cristaux 

 de silicium ont été détruits ou corrodés superficiellement. Ces cristaux, de silicium 

 soluble entourent et pénètrent les cristaux de silicium ordinaire qui restent inaltérés 

 et conservent lnut leur brillant. 



La limile de siliciuration du cuivre correspond bien à SiCu*, mais elle ne 

 peut être établie qu'en tenant compte de l'existence de la variété de sili- 

 cuim soluble de MM. Moissan et Siemens ('). Le siliciure de cuivre peut 

 être préparé pur par union directe du cuivre ou du silicium, en propor- 

 tions correspondant à la formule; afin d'être certain de sa composition il 

 est préférable d'ajouter du cuivre à un cuivre silicié plus riche et rigou- 

 reusement analysé. Ce siliciure fond vers 800° et se solidifie par refroidis- 

 sement lent en une masse ;i cassure conchoïdale très fragile dont l'examen 

 (l'une surface polie révèle l'homogénéité. La courbe de fusibilité que nous 



(') li. iMoissAN et SiEMi-NS, Comples rendus, t. CXXXVIII, igo'i, p. 65; et 1399. 



