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silice se dissout rapidement et il reste un mélange de cristaux de silicium 

 dont une partie se maintient en suspension et disparaît ensuite par l'addi- 

 <lilion d'acide fluorhydrique concentré. Le procédé analytique que nous 

 -avions suivi jusqu'ici comportait donc une cause d'erreur, le résidu de sili- 

 cium après l'action de l'acide fluorhydrique ne nous fournissant qu'une 

 ])arlie du silicium libre, le silicium soluble étant compté comme silice. 



Pour évaluer le silicium libre total nous avons converti le mélange pesé 

 ■de silice et de silicium, provenant de l'attaque par l'acide azotique, en sili- 

 cate de potassium dans lequel nous avons dosé la silice. L'augmentation do 

 poids était due à l'oxygène fixé sur le silicium libre, ce qui nous permettait 

 <le calculer le poids de ce dernier. Eu opérant ainsi nous avons pu constater 

 que le rap[)ort du cuivre au silicium combiné était toujours voisin de SiCu''. 



L'examen métallographique des surfaces polies de cuivres siliciés, renfer- 

 mant de I à 20 pour 100 de silicium, nous a permis de reconnaître la pré- 

 sence du silicium libre à partir de 10 pour 100 de silicium total. Sur une 

 surface polie d'un lingot à i4,4 de silicium total, après attaque à la potasse, 

 Jes cristaux de silicium apparaissent en creux ; on distingue aussi très net- 

 tement l'eutectique silicium et siliciure de cuivre. La mélallograpliie nous a 

 été également d'un grand secours, pour mettre en évidence, in situ, la pré- 

 sence du silicium libre soluble dans l'acide fluorhydrique. 



L'acide fluorhydrique est presque sans action sur le siliciure de cuivre. Une surface 

 jjolie d'un lingot à \!\ pour 100 de silicium, maintenue en présence de cet acide con- 

 centré et bouillant, ne cliange pas d'aspect; on reconnaît seulement que des cristaux 

 •de silicium ont été détruits ou corrodés superficiellement. Ces cristaux de silicium 

 soluble entourent et pénètrent les cristaux de silicium ordiiiaiie (|ui restent inaltérés 

 et conservent tout leur brillant. 



La limite de siliciuration du cuivre correspond bien à SiCu\ mais elle ne 

 peut être établie qu'en tenant compte de l'existence de la variété de sili- 

 cium soluble de iMM. Moissan et Siemens ('). Le siliciure de cuivre peut 

 être préparé pur par union directe du cuivre ou du silicium, en propor- 

 tions correspondant à la formule; afin d'être certain de sa composition il 

 est préférable d'ajouter du cuivre à un cuivre silicié plus riche et rigou- 

 reusement analysé. Ce siliciure fond vers 800" et se solidifie par refroidis- 

 sement lent en une masse à cassure conchoïdalc très fragile dont l'examen 

 d'une surface polie révèle l'honiogénéilé. La courbe de fusibilité que nous 



(') 11. iMoissAN et SiEMiiNs, Comptes rendus, t. CWWIII, 1901, p. Go; et layg- 



