SÉANCE DU 9 MAI I904. 



I169 



CHIMIE. — Volatilisation apparente du silicium dans l'hydrogène. Note de 

 M. A. DuFouR, présentée par M. J. Violle. 



« I. Dans une Note précédente (*), j'ai montré que l'hydrogène silicié 

 pouvait exister à une température élevée. Ce résultat va permettre d'expli- 

 quer le phénomène de la volatilisation apparente du silicium dans les tubes 

 de Geissler remplis d'hydrogène sihcié, quand on les illumine à l'aide d'une 

 bobine d'induction. 



» Tubes à hydrogène silicié. — Par raction de l'acide chlorhydrique sur le sili- 

 ciure de magnésium, on a préparé un mélange d'hydrogène, d'hydrogène silicié SiH* 

 et d'une trace de l'autre hydrure Si^ H^ (^). Les tubes ont été remplis sous une pres- 

 sion de 1™™ à 2""" de mercure avec ce gaz préalablement desséché au contact d'anhy- 

 dride phosphorique. Les précautions ordinaires en pareil cas ont été prises pour 

 assurer la propreté du remplissage. Pendant ce remplissage, on a eu soin de chauffer 

 au rouge sombre, à l'aide d'un bec Bunsen, la partie capillaire d'un de ces tubes; il 

 s'est déposé une couche de silicium sur la paroi interne du verre. 



» Le tube étant séparé de la trompe, on l'illumine à l'aide d'une bobine d'induction; 

 le passage de la décharge provoque immédiatement un dépôt brun sur les parois et les 

 électrodes (^). En faisant fonctionner ce tube pendant un temps suffisant ( i demi- 

 heure à I heure), le dépôt formé par la première décharge sur les parois et les élec- 

 trodes, ainsi que le dépôt de silicium obtenu parla chauffe extérieure pendant le rem- 

 plissage, ont disparu des endroits où ils se trouvaient et sont venus se réunir en entier 

 sur la portion de paroi baignée par l'espace obscur de Faraday. Si, dans ce même tube, 

 on change le sens de la décharge, l'espace obscur de Faraday change de place; le dépôt 

 quitte peu à peu la place qu'il occupait et vient se localiser de nouveau en face de l'es- 

 pace obscur actuel, sans que rien se soit déposé à aucun moment dans les autres par- 

 ties du tube. 



» On peut constater, en brisant le tube, que le dépôt présente les caractères du 

 silicium : les acides dissous, l'eau régale ne l'attaquent point; une goutte d'acide fluor- 

 hydrique du commerce ne l'altère pas aux. endroits qu'elle recouvre, mais le dépôt 

 disparaît tout autour de la goutte; la potasse le dissout immédiatement avec dégage- 

 ment de bulles gazeuses. 



)) Comment expliquer ce déplaceirient du silicium? 



» Sous l'influence de la température élevée produite dans le gaz par la 



(') A. DuFOUR, Comptes rendus, 2.5 avril 1904, p. io4o. 



(■-) MoissAN et Smiles, Ann. de Chlm. et de Phys., 7^ série, t. XXVII, 1902, p. 5. 

 (*) Ce dépôt, très adhérent, est formé de silicium et peut-être d"hydrures de sili- 

 cium solides. 





