Plasmaquellung und Wachstum. 395 
relative Dampfspannung auf festem Substrat tatsächlich einem 
Höchstwert entsprechen!. Aber auch diese Frage scheint mir 
einer genaueren Nachprüfung wert zu sein, da die Konzentra- 
tionsangaben in der Literatur nicht immer genügend exakt sind. 
Die weiter unten angeführten Versuche verfolgten haupt- 
sächlich das Ziel, die Wachstumskurve in Abhängigkeit von 
der relativen Dampfspannung, also auch vom Plasmaquellungs- 
zustand, festzustellen. Es wurden nur einige typische Vertreter 
der Mikroorganismen untersucht: 
100% 95% 90% 85% 
Abb. 4. Aspergillus glaucus. Durchmesser der Kolonie bei ver- 
schiedenen relativen Dampfspannungen. 
Aspergillus glaucus. 
Nährboden: Malzwürzegelatine. Objektiv ı, Stufenokularmikr. 2. Schälchen B. 
Relative Dampfspannung: 100% 99% 98% 97% 
Hyphenlänge nach 3 Tagen: 35 40 30 30 
Durchmesser der Kolonien nach 5 Tagen: 280><280 240><245 280><220 (140><140) 
Relative Dampfspannung: 96%, 5% 90% 85% 
Hyphenlänge nach 3 Tagen: 35—40 40 14 [6) 
Beginn der 
Durchmesser der Kolonien nach 5 Tagen: 280><240 290><280 140><140 Fe 
Diese Zahlen mögen als Beleg für die Kurve Abb. 4 dienen. 
1) Anders liegen allerdings die Verhältnisse, wenn man die Organismen allmählich 
an höhere Konzentrationen gewöhnt, dann kann der Grenzwert stark erhöht werden. 
Raciborski gelang es, aus sehr konzentrierten Substraten einen Aspergillus glaucus- 
Stamm und eine Torula-Art herauszuzüchten, die in gesättigten NaCl-Lösungen 
wuchsen, letztere sogar in gesättigter LiCl-Lösung. 
