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Ecco i risultati ottenuti: 



Conducibilità specifica 



sol. 3n. HC1 * °- 7116 



sol. 3 n. HC1 + X Cu CI » 0.7212 



sol. 3 n. HC1 + 0.89 n. Cu CI* " 0.6163 



sol. 3 n. HC1 + 0.89 n. Cu CI, + X 'Cu CI » 0.6251 



Come si vede, le variazioni trovate sono troppo piccole perchè da esse 

 sia possibile trarre alcuna conseguenza : probabilmente sono dovute soltanto 

 ad impurità contenute nel Cu CI ed alle variazioni che i volumi dei liquidi 

 dovranno probabilmente subire mentre il cloruro rameoso va in soluzione. 



Tali esperienze sembrano dunque dimostrare che il numero totale degli 

 ioni contenuti nelle soluzioni studiate non varia sensibilmente per il for- 

 marsi dei sali complessi rameoso-rameici ; la questione però che mi inte- 

 ressava maggiormente di studiare era quella riguardante la loro costituzione. 



A questo scopo ricorsi a due specie di esperienze che mi diedero ri- 

 sultati concordanti. 



La prima di esse fu di natura elettrometrica. 



È noto che immergendo una lamina di platino platinato in una solu- 

 zione cloridrica contenente Cu CI e CuCl 2 si ottiene un così detto elettrodo 

 rameico-rameoso che deve possedere un determinato potenziale di riduzione 

 e rispettivamente di ossidazione, dal quale è possibile calcolare il rap- 

 porto tra la pressione osmotica, e quindi anche la concentrazione, degli ioni 

 rameici e quella degli ioni rameosi. 



Al processo di riduzione e rispettivamente di ossidazione indicato dalla 



equazione 



Cu" = Cu- + F(+) 

 corrisponde la singola differenza di potenziale espressa dalla formula: 



* = RTln 



da cui può ricavarsi il termine ET In. K , detto come è noto il potenziale 

 elettrolitico dell'elettrodo, quando si determini il potenziale e , essendo fra loro 

 eguali le pressioni osmotiche degli ioni rameosi e degli ioni rameici. In tale 

 caso sarà evidentemente 



BTln.^ = 0 

 [Cu-] 



per cui « = « 0 = ET In. K . 



