ЭТЮДЫ ПО КРИСТАЛЛОГЕНЕЗИСУ. 
11 
Ростъ кристалловъ CuS0 4 .5H 2 0 на разныхъ глубинахъ. Уд. вѣсъ раствора. Опыты съ мѣд- 
нымъ купоросомъ, при тѣхъ же условіяхъ, какъ и съ квасцами и хлорновато-натровой 
солью, дали результаты, согласные съ тѣми, которые получились изъ наблюденій надъ 
ростомъ кристалловъ въ обычныхъ сосудахъ. Помѣщенные въ разныхъ горизонтахъ насы- 
щеннаго раствора кристаллы мѣднаго купороса растутъ одинаково успѣшно хотя и съ 
неодинаковою скоростью. 
Привожу три опыта, изъ которыхъ два произведены были съ тремя кристаллами, а 
одинъ — съ двумя. Температура была постоянна и равнялась 15° С. 
А. Вѣсъ кристалловъ: 
,, Но истечевіи ^ п , 
До опыта. 2 сутокъ. Разница въ%. 
Ш 1 (на глубинѣ 28— 40 мм.) . .. 0,693 1,0905 57,3% 
№2(» » 122 — 137 »)... 0,6435 1,1985 86,2°/ 0 
Ш 3 (» » 172 — 185 »)... 0,6725 1,292 92,1% 
В. 
№ 1 1,0905 1,239 13,6% 
№ 2 . . . . 1,1985 1,385 15,6% 
№ 3 1,292 1,5405 19,2% 
Такимъ образомъ и здѣсь приростъ постепенно возрастаетъ съ глубиною раствора. 
Въ третьемъ опытѣ, какъ указано выше, взято было два кристалла: верхній (№ 1) 
висѣлъ па глубинѣ 28- — 40 мм. и нижній (JVs 3) на глубинѣ 173 — 185 мм. 
По истеченіи пяти сутокъ (температура была 15 — 16 — 15° С) получилось: 
Вѣсъ кристалловъ: 
До опыта. ІІослѣ 5 сутокъ. Разность. 
№ 1 1,239 1,2155 — 1,9% 
№ 2 1,5405 1,8775 -+- 21,8% 
Тотъ же растворъ оставлепъ въ покоѣ на пять сутокъ, а затѣмъ былъ опредѣленъ 
уд. вѣсъ трехъ Фракцій съ различныхъ глубинъ; получилось: а) верхняя (до глубины 
71 мм.) уд. в. 1,183; Ь) средняя (до глубины 138 мм.) — 1,184 и с) нижняя (остальная 
часть раствора) — 1,184. 
Подобные же результаты получились и при другихъ опытахъ: отстаиваніе частицъ 
CuS0 4 .5H 2 0 въ теченіе пяти сутокъ обнаруживалось только въ верхней Фракціи, въ слѣ- 
дующихъ же ниже оно не замѣчалось. 
Интересно вліяніе постороннего вещества, находящаяся въ растворѣ, на разслаи- 
ваніе раствора. Въ этомъ направленіи сдѣлано было нѣсколько наблюденій. Оставляя болѣе 
обстоятельное изслѣдованіе вопроса о разслаиваніи пересыщенныхъ и насыщенныхъ 
растворовъ до будущаго, приведу примѣры разслаиванія, наблюдавшіеся при кристалли- 
