SUR LES PHÉNOMÈNES DE DISSOCIATION. 171 
vite si on chaufife; à 250% quelques instants suffisent pour 
la terminer. Mais jamais à ces températures on n'observe 
de formation d'ozone. Celle-ci n'apparaît, à côté de la des- 
truction très rapide, qu'au-dessus de 1,000°, et la vitesse de 
cette production croît, comme celle de la décomposition, à 
mesure que la température devient plus haute. Il en résulte 
un équilibre où existe une proportion d'ozone plus ou 
moins grande, mais suffisante pour être manifestée par un 
retour brusque à la température ordinaire. C'est ce qu'ont 
observé MM. Troost et Hautefeuille. 
En figurant par des courbes la variation des vitesses ini- 
tiales de destruction de l'ozone et de 
combinaison de l'oxygène, nous au- 
rions la figure 3 : 
Les courbes ne se couperont pas ; 
la proportion d'ozone contenu dans 
le mélange ne s'élèvera sans doute 
qu'à une très faible valeur. 
Chlorure siliceux. — Le chlorure siliceux Si^Cl^ se com- 
porte d'une manière anatogue', mais qui a donné lieu à 
une interprétation inadmissible. C'est à tort que l'on a attri- 
bué à ce corps une tension de dissociation^ faible à 350", 
croissant avec la température jusqu'à un. maximum situé 
vers 800° pour s'abaisser de nouveau au voisinage de 1,200°. 
En réalité, ce corps, stable au-dessous de 300°, se détruit 
totalement en silicium et chlorure silicique SiCl*, quand on 
le chauffe à une température plus haute, de 350° à 1,000°. 
L'action est très lente à 350°, rapide à 800°, mais toujours 
complète; car jamais on n'obtient aucune trace de chlorure 
siliceux en faisant passer du chlorure SiCl* sur du silicium 
chauffé au-dessous de 1,000°. La réaction n'est donc pas 
limitée et ne comporte pas de tension de dissociation. 
C'est seulement au-dessus de 1,100°. que la réaction de 
formation vient se juxtaposer à la destruction. A partir de 
ce moment, il y aura dans le chlorure de silicium SiCl* 
1. C'est un liquide incolore bouillant à 146° sans décomposition. 
